多波长-变温 PL 钙钛矿膜厚测量：实验方案与决策树
编写：2026-06-11 | 关联：
多波长变温PL测厚_可行性方案.md方案不确定性分析.md方案后备路线.md原则：每步实验有明确的通过/失败判据，失败有预置后备分支，不让任何一个实验结果成为死胡同
总览：实验决策树全景
Phase 1: 光学常数 (n,k) ────→ [不通过] → 文献近似 + 误差扩大
↓ [通过]
Phase 2: 载流子扩散 L_d ────→ [L_d > 1μm] → 分支A: 单波长+变温 或 双光子
↓ [L_d < 300nm]
Phase 3: η_rad 表征 ──────────→ [不均严重] → 分支B: η_rad(z) 模型修正 + TRPL 先验
↓ [均匀/可控]
Phase 4: 平面校准 ────────────→ [偏倚>30%] → 分支C: 重新审视物理模型
↓ [偏倚<15%]
Phase 5: 绒面验证 ────────────→ [G因子不准] → 分支D: RayFlare RT_TMM 精化
↓ [精度达标]
Phase 6: FIB-SEM 交叉验证 ────→ [偏倚>20%] → 分支E: 系统偏倚校正曲线
↓ [偏倚<10%]
方案成立 ✅
Phase 1: 光学常数测定
实验 1A：获取光学常数 n,k 谱
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 获得你的钙钛矿组分（FA₁₋ₓCsₓPb(I₁₋ᵧBrᵧ)₃）在 300-1200 nm 范围的 n(λ) 和 k(λ)，计算 α_exc(405nm)、α_exc(640nm)、α_PL(~775nm) |
| 方法 A (推荐) | 从 nk_repo [Dasgupta/Stranks/Snaith 2026] 提取匹配组分的 n,k 数据。已克隆至 C:\Users\23012\Desktop\产业项目\nk_repo\，覆盖 FA-Cs-Pb-I-Br 全系列 5 档 Br 含量，波长 210-2500 nm。原始数据: Stitched_Not_Interpolated/, 插值数据: Interpolated/ |
| 方法 B (备选) | 光谱椭偏仪（如 J.A. Woollam M-2000，川大分析测试中心共享平台）——用于验证或补充未覆盖的组分 |
| 样品（方法B） | 平面玻璃基底上的钙钛矿薄膜（无金字塔，无传输层），200-500 nm 膜厚，新鲜制备 |
| 时长 | 方法 A: 0.5 天；方法 B: 1 天 |
| 输出 | n(λ), k(λ), α(λ) = 4πk(λ)/λ 的数据表格 |
通过判据：
- ✅ α(405nm) 在 5×10⁴ ~ 1.2×10⁵ cm⁻¹ 范围内 → 文献范围内，正常
- ✅ α(635nm) 在 0.5×10⁴ ~ 2×10⁴ cm⁻¹ 范围内
- ✅ α(775nm) 在 0.8×10⁴ ~ 2×10⁴ cm⁻¹ 范围内
⚠️ 如果失败：椭偏仪不可用或样品不适合
分支 1A-1: 用 Dasgupta 2026 nk_repo 最近组分替代
→ 从 C:\Users\23012\Desktop\产业项目\nk_repo\Stitched_Not_Interpolated\
找到与你组分最接近的 CSV（如 Br20%, Cs10%）
→ α 的估计误差 ~15-25%（组分不完全匹配）
→ 后续实验的 d 误差预算扩大 15% → 需在 Phase 4 中通过平面校准补偿
分支 1A-2: 分光光度计透射法 (Tauc plot)
→ 用 UV-Vis 分光光度计测透射率 T(λ)
→ α = -(1/d) × ln(T)，d 由台阶仪确认
→ 精度不如椭偏，但在带边以上区域（α > 10⁴ cm⁻¹）可用
→ 635nm 近带边区域精度较差 → 增加 α(635nm) 误差预算到 30%
实验 1B：变温吸收谱（可选，取决于可用性）
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 直接测量 Δα_PL/ΔT，替代现有的 Eg 红移估算 |
| 样品 | 同 1A |
| 设备 | 变温 UV-Vis 分光光度计（含热台）或变温椭偏仪 |
| 时长 | 1-2 天 |
| 输出 | α(λ, 25°C) 和 α(λ, 85°C) 对比 → Δα_PL 实测值 |
⚠️ 如果失败：设备不可用
分支 1B-1: 用文献 dEg/dT 估算（当前默认方案）
方案中已采用 ΔEg/ΔT ≈ -0.3 meV/K → Δα_PL(775nm) ≈ 5-10% for ΔT=60K
→ 估算误差 ~50%（即 Δα_PL 变化可能在 3-15% 之间）
→ 影响：Δα 越小，变温通道的区分度越低
→ 缓解：如果 Δα_PL < 5%，扩大 ΔT 到 100K 或在方案 B 判断中切换分支
分支 1B-2: 用 PL 峰位随温度变化反推
→ 测量 PL 峰位 E_PL(T) 在 25°C, 50°C, 85°C
→ 从 E_PL(T) 外推 Eg(T)，再用已知的 α(E) 函数关系估算 α(T)
→ 精度中等（~30% 误差），但仅需共聚焦 PL + 热台（Phase 3 已有）
Phase 2: 载流子扩散长度 — 方案成立的先决条件
实验 2：背面激发法测 L_d
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 确定载流子扩散长度 L_d，判断多波长穿透深度差是否被扩散抹平 |
| 物理原理 | PL 从背面激发（光从玻璃/硅侧入射 → 穿过基底 → 到达钙钛矿底部）时，PL 来自底部的载流子扩散到表面后辐射复合。I_PL 随膜厚增大而衰减的斜率 → L_d |
| 样品 | 2-3 个平面玻璃基底上的钙钛矿薄膜，不同膜厚（200, 500, 1000 nm） |
| 设备 | 共聚焦 PL，405nm 激光，从样品背面入射（需倒置显微镜或翻转样品） |
| 时长 | 2-3 天 |
| 关键测量 | I_front(405nm) / I_back(405nm) 比值随膜厚的变化 |
测量逻辑：
正面激发 (405nm, 当前方案的标准方式):
载流子在近表面产生 → 扩散到全膜厚 → PL 来自全膜厚
→ I_front(d) ∝ exp(-α_PL·G·d) 受到载体扩散影响但仍可滤除
背面激发 (405nm, 从此实验):
载流子在底部产生 → 必须扩散到上表面才能发 PL
→ I_back(d) ∝ exp(-d/L_d) × exp(-α_PL·G·d)
→ I_back/I_front ∝ exp(-d/L_d) → 直接提取 L_d
通过/失败判据：
| 结果 | L_d 范围 | 判断 | 下一步 |
|---|---|---|---|
| ✅ 理想 | L_d < 200 nm | 扩散长度远小于膜厚 → 多波长穿透深度差完好保留 | Phase 3 |
| ⚠️ 边界 | 200 < L_d < 500 nm | 扩散部分抹平穿透深度差，但 405 vs 635 差异仍然可辨 | Phase 3 但降低精度预期 15-20% |
| ❌ 不通过 | L_d > 1 μm | 扩散完全抹平穿透深度差 → 比值法的深度分辨力丧失 | 进入分支 2A |
| ❓ 不确定 | 测量噪声太大无法判断 | 进入分支 2B |
分支 2A：L_d > 1 μm — 多波长深度分辨力丧失
问题：405nm 和 635nm 产生的载流子会扩散到全膜厚，R(405/635) 对膜厚不敏感。
后备实验 2A-1：切换到单波长 + 变温绝对法
测量: I_PL(405nm, 25°C) 和 I_PL(405nm, 85°C)
求解: 仅用 α_PL 的温度变化作为调制通道 → d
不需要多波长比值 → 不受扩散影响
优点: 设备不变（共聚焦PL+热台），损失仅比值法的 Φ₀ 自动消去
代价: 需要 Φ₀ 归一化（标准参考样 + 功率监测）
精度: 预期 ±12-18%（d=300-800 nm 范围）
后备实验 2A-2：改用 PL 峰位红移法（Callies 路线扩展）
测量: PL 峰位随金字塔高度/膜厚的变化
原理: 重吸收导致 PL 光谱中短波长成分逐渐滤除 → 峰位红移
E_PL(d) = E_PL(0) - k × d （Callies 2025 已定标 k = 47 meV/μm）
优点: 峰位对扩散不敏感（只依赖光子路径积分，不依赖载流子起点）
代价: 需要 Raytrace3D 支持或平面定标
峰位提取精度 ~5 meV → d 精度 ~±100 nm
后备实验 2A-3：双光子 z-scan（物理上最直接）
原理: 双光子激发局限在焦斑 (~1 μm³)，不存在扩散均匀化问题
优点: 从根本上绕过扩散问题
代价: 需要双光子显微镜（共享平台预约）
决策：如果 L_d > 1μm，推荐顺序 → 2A-1（单波长绝对法，设备门槛最低）→ 2A-3（双光子，精度最高）→ 2A-2（峰位法，后备的后备）
分支 2B：L_d 测量不确定
问题：背面激发信号太弱（钙钛矿/玻璃界面反射导致激发效率低）或信噪比不足。
后备实验 2B-1：SPCM (稳态光电流/光电压) 法
样品: 平面钙钛矿 + 传输层制成完整电池
测量: 不同波长 (405, 532, 635 nm) 的 EQE 或光电压 →
charge collection efficiency 与激发深度的关系 → L_d
优点: 器件物理标准方法，可靠
代价: 需要完整器件（多了传输层吸收等修正），多 2-3 天
后备实验 2B-2：TRPL 扩散模型法
测量: 正面和背面分别激发 → TRPL 衰减曲线
原理: τ_eff = τ_bulk + d²/(π²·D)（扩散限制衰减）
→ 从膜厚依赖的 τ_eff 提取扩散系数 D → L_d = sqrt(D·τ)
代价: 需要 TRPL 系统（Phase 3 也需要，设备有复用）
后备实验 2B-3：文献保守估计（最省事）
取文献中最保守的 L_d 值（钙钛矿多晶薄膜典型 100-500 nm）
如果 L_d 实际 <300 nm → 没问题
如果 L_d 实际 >1 μm → 这个假设会掩盖致命问题
→ 仅在实验 2A-1, 2B-1, 2B-2 均不可行时采用
→ 必须标注"L_d 未经验证"的 caveat
Phase 3: η_rad 表征
实验 3A：平面膜 η_rad 基准（TRPL + 变温 PL）
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 提取 η_rad(T) 的绝对值，分离 τ_r 和 τ_nr |
| 样品 | 同 Phase 1 的平面钙钛矿薄膜（200, 500 nm 两个膜厚） |
| 设备 | TCSPC (时间相关单光子计数) TRPL 系统 + 变温台 |
| 时长 | 3-5 天 |
| 关键测量 | τ_eff(T) at 25°C, 50°C, 85°C → Arrhenius 分析 → τ_r, τ_nr, E_a |
Arrhenius 分离方法：
τ_eff⁻¹(T) = τ_r⁻¹ + τ_nr⁻¹(T)
= τ_r⁻¹ + τ_nr⁰⁻¹ × exp(-E_a/kT)
低温下 τ_nr 被冻结 → τ_eff → τ_r（辐射寿命基准）
高温下 τ_nr 激活 → τ_eff ↓ → 拟合得到 E_a 和 τ_nr⁰
η_rad(T) = τ_eff(T) / τ_r
通过判据：
- ✅ η_rad(25°C) > 0.3 → 膜质量可接受
- ✅ Arrhenius 拟合 R² > 0.9 → 物理模型正确
- ✅ η_rad(85°C) / η_rad(25°C) 稳定可重复 → 变温 PL 可正常测量
⚠️ 如果失败：
分支 3A-1: η_rad < 0.1 (膜质量极差)
→ 样品问题而非方案问题 → 优化制膜工艺后重做
→ 如果工艺一时无法改进：方案仍可推进，但精度预期从 ±10% 降到 ±25%
→ MC 模拟中 Δη 参数扩大到 0.9（表面淬灭更严重）
分支 3A-2: TRPL 不可用（设备故障/预约困难）
→ 采用 Fassl 2021 (Matter) 的方法：仅用稳态 PL 强度 + PL QY 定标估算 η_rad
→ 样品 + 积分球 + 已知 QY 参考 → η_rad = PL_sample / PL_ref × QY_ref
→ 精度降低（±15% vs ±5%），但不需要 TCSPC
→ 代价：无法分离 τ_r 和 τ_nr → 变温 Arrhenius 分析受限
分支 3A-3: 变温下 PL 不稳定（降解/相变）
→ 氮气环境 + 缩短测量时间（每个温度点 < 30s）
→ 或仅用 2 个温度点（25°C, 60°C）而非 3 个
→ 如果仍不稳定 → 放弃变温 → 采用单温度点多波长比值法 + η_rad(z) 文献估计
（这是方案降维，精度损失 ~20%）
实验 3B：η_rad 空间分布 — 峰区 vs 谷区
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 确认绒面金字塔上 η_rad 的面内分布差异 |
| 样品 | 金字塔绒面硅上的钙钛矿薄膜 |
| 设备 | 共聚焦 PL + TRPL mapping 或至少 PL mapping |
| 时长 | 2-3 天 |
| 关键测量 | 选择 10+ 个金字塔，每金字塔测峰顶和谷底的 PL 强度 + τ_eff |
通过判据：
- ✅ I_PL(peak) / I_PL(valley) > 0.8 → 峰区淬灭不严重，η_rad 近似均匀
- ⚠️ 0.5 < ratio < 0.8 → 存在非均匀性但可修正（在求解器中用位置依赖的 η_rad(x,y) 加权）
- ❌ ratio < 0.5 → 严重非均匀，比值法被显著污染
⚠️ 如果 ratio < 0.5：
分支 3B-1: 仅用谷区数据（保守）
→ 在求解时仅选择金字塔谷区（η_rad 均匀、膜厚最大、信号最强）的像素
→ 牺牲空间覆盖 → 得到可靠但局部的膜厚值
→ 峰区膜厚通过几何模型外推（已知金字塔角度 54.7°）
分支 3B-2: TRPL mapping 做逐像素校正
→ 对全场做 TRPL mapping → 每个像素得到 τ_eff → 估算 η_rad(x,y)
→ 将 η_rad(x,y) 作为已知量输入求解器 → d(x,y) 不受 η_rad 面内分布污染
→ 最完整但最耗时（全场 TRPL mapping ~4-8 小时）
分支 3B-3: 分离峰区/谷区，分别求解
→ 将测量区域分成"峰区"和"谷区"两个域
→ 每个域用各自的平均 η_rad 做求解
→ 精度中等但计算简单
实验 3C：η_rad(z) 深度轮廓表征（可选，高难度）
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 直接验证 η_rad(z) 的指数衰减模型，提取 L_surf 和 Δη |
| 方法 A | 截面 CL (阴极荧光)：FIB 切截面 → SEM-CL 沿深度方向扫描 → CL 强度 ∝ η_rad(z) |
| 方法 B | 深度分辨 TRPL：用不同激发波长（穿透深度不同）的 TRPL → τ_eff 随激发波长的变化 → η_rad(z) 间接提取 |
| 方法 C | 仅依赖 Ahmad 2024 的理论 L_surf 范围（10-50 nm）+ Bayesian 先验 |
⚠️ 几乎肯定失败（当前设备条件）：方法 A 和 B 需要极专业的设备。推荐分支 3C-3：
采用 Ahmad 2024 的 L_surf 先验 + 实验 3A 测得的 η_bulk
→ L_surf 的先验分布: 均匀分布 U(10, 50) nm
→ Δη 的先验分布: Uniform(0.5, 0.9)
→ 在 Phase 5 的求解器中作为 Bayesian 先验约束
→ MC 模拟已证明可大幅降低偏倚
Phase 4: 平面钙钛矿 Beer-Lambert 模型验证
实验 4：平面膜厚梯度校准
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 在受控的平面几何上验证 PL 强度 → 膜厚反演的完整流程 |
| 样品 | 4-6 个平面钙钛矿薄膜，膜厚 150, 300, 500, 800, 1200, 2000 nm（通过旋涂转速控制），截面 SEM 确认 |
| 设备 | 共聚焦 PL + 405/640nm 双波长 + 热台 |
| 时长 | 3-5 天（制样 + 测量 + SEM） |
| 关键测量 | 每样品 3 个独立区域，测 I(405), I(640) at 25°C, 85°C |
Beer-Lambert 假设的物理验证： Bonnin-Ripoll et al. (2019) [BR19] 通过 MC+TMM 对比实验证实：d ≥ 200 nm 时，相干（TMM/Beer-Lambert）与非相干（全 MC）的光学计算误差 < 2%。因此：
- d ≥ 200 nm: Beer-Lambert 解析模型物理有效 → 可信任比值法结果
- d < 200 nm: 相干效应不可忽略 → 需验证或升级到 MC 方法
- 150 nm 样品的作用：验证 Beer-Lambert 在薄膜区的偏离起点
测量流程（每样品）：
(1) SEM 截面 → d_SEM（基准真值）
(2) 共聚焦 PL 正面激发: I(405,25°C), I(635,25°C), I(405,85°C), I(635,85°C)
(3) 比值法求解: d_PL = f(R₁, R₂) with G=1 (平面)
(4) 绝对法求解: d_PL_abs = f(I_405) with G=1 + Φ₀ 归一化
(5) 均质求解 vs 匹配求解（含 η_rad(z) 模型）对比
通过判据：
- ✅ |d_PL - d_SEM| / d_SEM < 15%（均质模型）→ Beer-Lambert + 文献参数适用
- ✅ 匹配模型（含 η_rad(z)）偏倚 < 10% → 修正有效
- ✅ d_PL 与 d_SEM 呈线性相关（R² > 0.95）→ 模型可线性校准
⚠️ 如果偏倚 > 30%：
分支 4A: 偏倚一致且系统性
→ 建立 d_PL = a × d_true + b 的校准曲线
→ 整个方案的误差从"绝对精度"转为"校准后的相对精度"
→ 对绒面测量同样有效（只要校准曲线可平移）
→ 这是最务实的后备 —— "不追求物理完美，追求工程可用"
分支 4B: 偏倚随机，无规律
→ 说明基本物理假设有严重问题（如光子循环主导、散射不可忽略）
→ 重新检查制膜质量（针孔、粗糙度、相分离）
→ 如果物理假设确认无误 → 放弃 Beer-Lambert 解析模型
→ 切换为纯经验模型：ML/多项式拟合 d_PL vs (R₁, R₂, I_abs, T) → d
（"黑箱"方案，需要更多 SEM 标定点 ~30-50 个，耗时但可行）
分支 4C: 薄样（<300nm）偏倚大，厚样偏倚小
→ 说明 η_rad(z) 对薄膜影响更大（MC 已预测：53% vs 27%）
→ 确认需要 η_rad(z) 修正 → 严格采用 Phase 3C 的 Bayesian 先验
→ 薄膜用绝对法、厚膜用比值法（混合策略）
Phase 5: 绒面金字塔验证
实验 5：金字塔绒面 PL 测量与 G 因子标定
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 在真实绒面金字塔上运行完整测量流程，标定几何因子 G |
| 样品 | 金字塔绒面硅上的钙钛矿薄膜（与产线相同的制备工艺） |
| 设备 | 共聚焦 PL 显微镜（高 NA 物镜，推荐 100×, NA 0.9）+ 405/635nm + 热台 |
| 时长 | 1-2 周 |
| 关键测量 | 选择 10-20 个代表性金字塔，每个金字塔测峰顶、谷底、斜面中点的 PL |
测量流程：
Step 1: 金字塔选择
├── 在明场下定位 10-20 个独立金字塔（大小均匀，形貌规整）
├── 记录每个金字塔的 (x,y) 坐标
└── 每个金字塔标记峰顶、谷底、斜面中点 3 个 ROI
Step 2: PL 采集
├── 每 ROI: I(405,25°C), I(635,25°C), I(405,85°C), I(635,85°C)
├── 每次测量 5 次平均 → 随机误差 ±3%
└── 峰顶ROI: 光斑 ~0.5 μm（峰顶曲率半径）vs 谷底ROI: 光斑 ~2 μm
Step 3: 初始反演（G=1，忽略几何）
├── 比值法 → d_PL_initial(每个ROI)
└── 谷底区域应接近 d_true（谷底近似平面，G≈1）
Step 4: G 因子标定（与 FIB-SEM 交叉验证）
├── 选取 3-5 个金字塔做 FIB-SEM 截面
├── 在相同 ROI 获取 d_SEM（真值）
├── 对谷底 ROI: d_SEM 直接校准
└── 对峰顶/斜面: G = f(d_SEM, d_PL_initial) 反向求解
通过判据：
- ✅ 谷底 d_PL 与 d_SEM 偏差 < 15% → 平面校准成功平移到绒面谷底
- ✅ 峰顶 d_PL 与 d_SEM 偏差 < 25% → G 因子修正有效
- ✅ 金字塔间的 d 差异与工艺预期一致（峰薄谷厚）
⚠️ 如果 G 因子引起偏差 > 40%：
分支 5A: 实施 RayFlare 光学模拟（替代原 Kumar 2021 sPSF + Bonnin-Ripoll MC+TMM）
→ 用 RayFlare (已克隆至 C:\Users\23012\Desktop\产业项目\rayflare_repo\)
的 RT_TMM 模块建立金字塔几何的混合光学模型
参考示例: rayflare/examples/perovskite_Si_pyramids_tandem.py
→ 解析 RT + Lambertian 近似 → 快速生成 G 因子 LUT [Wong24]
→ 全 MC 模式 (n_rays=20000) 验证关键 ROI 的 G 值
→ G(z) 计算基于 Bonnin-Ripoll 2019 Eq.(6):
G(z) = α · ∫ N₀(0,θ) · exp(−αz/cosθ) dθ
→ 预期额外耗时 ~1 周（修改示例脚本 + 跑模拟）
→ 若 RayFlare 不可用: 降级为 Kumar 2021 pencil beam sPSF 解析模型
分支 5B: 仅用谷底 + 斜面平坦区数据
→ 放弃峰顶的定量测量（峰顶膜最薄、信号最弱、G 最难标定）
→ 峰顶膜厚通过谷底膜厚 + 金字塔几何关系（角度 54.7°）推算
→ 牺牲峰顶精度换可靠性
分支 5C: 极端情况——改用 CL（阴极荧光）做交叉验证
→ FIB 切截面 → SEM-CL 沿深度方向成像 → 直接测量膜厚
→ 破坏性但有最高真实度
→ 仅做 3-5 点验证，不用于产线
Phase 6: 综合验证与精度评估
实验 6：方法整体验证
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 目的 | 完整流程的精度、重复性、鲁棒性评估 |
| 样品 | 2 个独立批次的绒面钙钛矿样品（不同于 Phase 5） |
| 测量 | 全流程重复 × 3 次（不同日期）+ FIB-SEM × 5 点交叉验证 |
| 时长 | 1 周 |
| 输出 | 精度报告：d_PL vs d_SEM 的 Bland-Altman 分析 |
最终精度分级：
| 等级 | 条件 | d 不确定度 | 可用性 |
|---|---|---|---|
| A | 所有 Phase 通过，无后备分支 | ±8-12% | 方案原版 ✅ |
| B | 1-2 个后备分支启用 | ±15-20% | 可用 ⚠️ |
| C | 3+ 个后备分支启用 | ±20-30% | 半定量 ⚠️ |
| D | 核心假设不成立 | 不确定 | 切换方案 ❌ |
附录：设备清单与获取途径
| 设备 | 用途 | Phase | 来源建议 | 预估费用 |
|---|---|---|---|---|
| nk_repo (Dasgupta 2026) ⭐ | n,k 数据首选 | 1 | GitHub 开源，已克隆至本地 | 免费 |
| 光谱椭偏仪 | n,k 测量（备选/交叉校验） | 1 | 川大分析测试中心共享平台 | ¥500-1000/次 |
| UV-Vis 分光光度计 | 吸收谱（备用） | 1 | 材料学院实验室 | 无需外借 |
| 共聚焦 PL 显微镜 (405/640nm) | 核心测量 | 2-6 | 物理学院/光电实验室 | 课题组自备或共享 |
| 热台 (RT-100°C) | 变温 | 2-6 | 需自行购买或借用 | ¥5000-15000 |
| TCSPC/TRPL 系统 | η_rad 分离 | 3 | 物理学院超快光学实验室 | ¥1000-2000/天 |
| 截面 SEM/FIB | 膜厚真值 | 4-6 | 川大电镜中心 | ¥500-1000/样 |
| RayFlare (Pearce 2021) ⭐ | G 因子光学模拟 | 分支5A | LGPL v3 开源，已克隆至本地 | 免费 |
| 双光子显微镜 | 后备方案 | 分支2A-3 | 华西/生科院共享 | ¥2000-4000/天 |
| 积分球 + 光谱仪 | PL QY（备用） | 分支3A-2 | 化学学院/材料学院 | 可借用 |
实验方案文档创建：2026-06-11 11:17 GMT+8
最后更新：2026-06-11 12:42 GMT+8（新增 nk_repo、RayFlare、BR19 Beer-Lambert 验证、Wong24 G因子加速）
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